Granit er et fremragende materiale til maskinbaser, især til Wafer -behandlingsudstyr, på grund af dets unikke egenskaber, såsom høj stivhed, lav termisk ekspansion og overlegne vibrationsdæmpningsegenskaber. Mens metal traditionelt er blevet brugt som materiale til maskinbaser, er granit fremkommet som et overlegent alternativ på grund af følgende årsager:
Høj stivhed: En maskinbund skal være stiv og stabil for at minimere vibrationer og opretholde nøjagtighed under Wafer -behandling. Granit har et forhold med høj stivhed og vægt, hvilket gør det ekstremt stift og stabilt, hvilket reducerer vibrationer og sikrer fremragende bearbejdningsnøjagtighed.
Lav termisk ekspansion: Temperaturændringer kan få metal til at udvide eller sammentrække, hvilket resulterer i dimensionelle ændringer i maskinbasen og fører til unøjagtigheder i behandlingen. Granit har på den anden side en lav koefficient for termisk ekspansion, hvilket betyder, at den ikke udvides eller kontraherer meget med temperaturændringer, hvilket sikrer stabilitet og nøjagtighed i behandlingen.
Overlegen vibrationsdæmpning: Vibration er et almindeligt problem i maskinværktøjer, og det kan føre til dimensionelle fejl, overfladefinishproblemer og endda for tidligt slid på maskinkomponenterne. Granit er kendt for sine fremragende vibrationsdæmpningsegenskaber, hvilket betyder, at det kan absorbere og dæmpe vibrationer, hvilket sikrer glat og nøjagtig behandling.
Kemisk resistens: Wafer -behandling involverer anvendelse af forskellige kemikalier, og eksponering for disse kemikalier kan forårsage korrosion og nedbrydning af maskinbasen over tid. Granit er meget modstandsdygtig over for kemisk korrosion, hvilket gør det til et sikkert og holdbart materialevalg til maskinbaser i Wafer -behandlingsudstyr.
Lav vedligeholdelse: Granit kræver minimal vedligeholdelse, er let at rengøre og korroderer ikke eller rust som metal. Dette betyder lavere vedligeholdelsesomkostninger og mindre nedetid for udstyret.
Generelt giver valg af granit frem for metal til en maskinbase til Wafer -behandlingsudstyr flere fordele, herunder høj stivhed, lav termisk ekspansion, overlegen vibrationsdæmpning, fremragende kemisk modstand og lav vedligeholdelse. Disse fordele sikrer, at maskinbasen forbliver stabil, nøjagtig og holdbar, hvilket resulterer i skivebehandling af høj kvalitet og øget produktivitet.
Posttid: DEC-28-2023